真空电镀铁磁性靶材的主要方法有：

由于真空电镀磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常真空电镀时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁控性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。

真空电镀实现的途径主要有以下几种：

1、靶材设计与改进（将铁磁性靶材的厚度减薄是解决真空电镀铁磁材料靶材的最常见方法。）；

2、增强真空电镀阴极的磁场效应；

3、降低靶材的磁导率；

4、设计新的磁控溅射的阴极装置；

5、设计新的真空电镀的系统；

6、靶材与磁控溅射的阴极装置的综合设计。