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绝缘介质膜需要采用哪种溅射镀膜方式?
【发布人:苏州真空镀膜】【发布时间:2014-10-30】【阅读次数:3564】

由于直流溅射和直流磁控溅射镀膜装置都需要在溅射靶上加上一负电位,因而只能溅射良导体,而不能制备绝缘介质膜。对于绝缘材料的靶材,苦采用直流二极溅射,正离子轰击靶的电荷不能导走,造成正电荷积累,靶面正电位不断上升,最后正离子不能到达靶面进行溅射,因此对绝缘靶材需要采用射频(高频)溅射技术。

射频溅射装置与直流溅射装置类似,只是电源换成了射频电源。

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